半導体製品の製造装置、超音波・高圧液噴射による各種洗浄装置の開発を行っています。

半導体製品の製造装置、産業機械の開発、超音波・高圧液噴射による各種洗浄装置の開発を行っています。

製品・技術のご紹介

流水式超音波洗浄真空乾燥機：レチクルケースをホーン型ノズルからの超音波水(純水)で流洗し、直ちにクリーンエアブロー後、真空チャンバーにて高速乾燥します。超音波洗浄ユニット：超音波振動技術を応用した洗浄機です。(左写真)クリーン高圧液噴射装置：エア圧力源を用いて発生させたクリーン高圧液をノズルからジェット噴射させて、半導体部品などの表面に付着した粒子や汚染物質を除去する洗浄装置です。